SIOC OpenIR  > 高分子材料研究室
Non-Porous Low-k Dielectric Films Based on a New Structural Amorphous Fluoropolymer
其他题名基于新型无定型含氟聚合物的无孔低介电常数膜
Yuan C(袁超); Jin KK(金凯凯); Li K(李凯); Diao S(刁屾); Tong JW(童佳伟); Fang Q(房强)
2013
发表期刊Adv. Mater.
ISSN0935-9648
卷号25期号:35页码:4875-4878
学科领域高分子化学 ; 氟化学
部门归属中国科学院上海有机化学研究所
URL查看原文
收录类别SCI
语种英语
WOS记录号WOS:000327692800006
引用统计
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.sioc.ac.cn/handle/331003/29275
专题高分子材料研究室
通讯作者Fang Q(房强)
推荐引用方式
GB/T 7714
Yuan C,Jin KK,Li K,et al. Non-Porous Low-k Dielectric Films Based on a New Structural Amorphous Fluoropolymer[J]. Adv. Mater.,2013,25(35):4875-4878.
APA 袁超,金凯凯,李凯,刁屾,童佳伟,&房强.(2013).Non-Porous Low-k Dielectric Films Based on a New Structural Amorphous Fluoropolymer.Adv. Mater.,25(35),4875-4878.
MLA 袁超,et al."Non-Porous Low-k Dielectric Films Based on a New Structural Amorphous Fluoropolymer".Adv. Mater. 25.35(2013):4875-4878.
条目包含的文件
文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
2013575.pdf(2736KB) 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
个性服务
推荐该条目
保存到收藏夹
查看访问统计
导出为Endnote文件
谷歌学术
谷歌学术中相似的文章
[袁超]的文章
[金凯凯]的文章
[李凯]的文章
百度学术
百度学术中相似的文章
[袁超]的文章
[金凯凯]的文章
[李凯]的文章
必应学术
必应学术中相似的文章
[袁超]的文章
[金凯凯]的文章
[李凯]的文章
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。