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学科主题: 氟化学
题名: 四氟化碳的合成及其在半导体等离子刻蚀中的应用
其他题名: Syntheses of carbon tetrafluoride and its application in the plasma etching
作者: 研究室604组
刊名: 有机化学
发表日期: 1980-01-01
期: 1, 页:18-24
部门归属: 科学院上海有机化学研究所所
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.sioc.ac.cn/handle/331003/26279
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研究室604组. 四氟化碳的合成及其在半导体等离子刻蚀中的应用[J]. 有机化学,1980(1):18-24.
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